产品时间:2025-08-13
设备用途:氮化硅陶瓷基板的气压烧结成型。设备特点:(1)卧式结构,由炉体,加热,真空、气氛控制系统等组成;(2)炉壳材料采用16MnR压力容器钢;(3)发热体采用等静压石墨,保温层采用石墨毡,碳碳深积纤维复合材料等制成;(4)配快冷风机,冷却速度短,工作效率高.主要适用标准:压力容器: GB/T 150.1~150.4-2024;真空技术—真空烧结炉JB/T 10550-2006;
主要用于在高温高压条件下,金属陶瓷材料,化学高纯的单晶材料、纳米相材料、梯度功能材料等高性能材料的制备。本设备还具备脱脂功能,并配备尾气焚烧装置.
在抽真空后可充惰性气体高压状态下,利用石墨电阻发热辐射加热的原理,通过热辐射传导到工件上(坩埚),完成高温高压状态下的烧结功能.
主要适用标准:
压力容器: GB/T 150.1~150.4-2024;真空技术—真空烧结炉JB/T 10550-2006;紧固件机械性能:不锈钢螺栓、螺钉和螺柱GB/T 3098.6-2014;电热装置基本条件GB/T10067.4-2005
主要参数介绍:
炉体为双层结构,中间通水,卧式安装方式,前部开门方便装取物料,炉门与炉体的关闭采用齿圈方式;
设计最高温度2000℃,最高工作温度1900℃;升温速率约 1200℃以下10℃/min,1200℃以上5-8℃/min;
充气压力9.9Mpa工作压力:9.0Mpa;
控制软件以PLC+触摸屏)为核心,自动化控制,中文界面;
有效装料区尺寸有(长宽高):400×250×250mm/500×400×400mm/1250×500×500mm/475×375×375mm;
根据需要,可接受非标定制。