产品时间：2025-08-14
氮化硅陶瓷基板气压制备设备用途及特点：氮化硅陶瓷基板的气压烧结成型。(1)卧式结构，由炉体，加热装置，真空系统、气氛控制系统等组成。(2)炉壳材料采用16MnR压力容器钢或304不锈钢。(3)发热体采用等静压石墨，保温层采用石墨毡，碳碳深积纤维复合材料等制成。(4)配有进口高压气体质量流量计，实现动态工艺气氛下的稳定烧结。
氮化硅陶瓷基板气压制备设备用途及特点：
氮化硅陶瓷基板的气压烧结成型。
(1)卧式结构，由炉体，加热装置，真空系统、气氛控制系统等组成。
(2)炉壳材料采用16MnR压力容器钢或304不锈钢。
(3)发热体采用等静压石墨，保温层采用石墨毡，碳碳深积纤维复合材料等制成。
(4)配有进口高压气体质量流量计，实现动态工艺气氛下的稳定烧结。
(5)高压气氛下红外精确控制炉温技术，特殊的红外吹扫结构，确保在最温度2100℃(不超过2MPa)长期稳定烧结。
氮化硅陶瓷基板气压制备设备主要规格：
设计温度2100℃、真空Pa、装料区尺寸有（长宽高）：400×250×250mm、500×450×450mm、1250×500×500mm、1400×600×600mm
86-021-39901930
